• 首页
  • 装备资讯
  • 热点专题
  • 人物访谈
  • 政府采购
  • 产品库
  • 求购库
  • 企业库
  • 品牌排行
  • 院校库
  • 案例·技术
  • 会展信息
  • 教育装备采购网首页 > 知识产权 > 专利 > CN102301032A

    具有加热的泻流孔的真空沉积源

      摘要:一种气相沉积源、系统及相关的沉积方法。提供与以难于控制的或者不稳定的方式蒸发或升华的材料一起使用的气相沉积源。本发明特别适用于沉积有机材料,例如用于在有机发光设备中形成一层或多层的那些有机材料。
    • 专利类型PCT发明
    • 申请人维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司;
    • 发明人S·W·普里迪;C·M·康伦;
    • 地址美国纽约
    • 申请号CN200980155439.9
    • 申请时间2009年12月16日
    • 申请公布号CN102301032A
    • 申请公布时间2011年12月28日
    • 分类号C23C14/24(2006.01)I;