摘要：本发明公开了一种陷印区域预览的方法及系统，属于印前处理技术领域。该方法及系统通过在陷印对象和陷印层之间添加白色透明预览层，对陷印对象进行淡化处理，从而凸显陷印区域。通过本发明方法及系统进行陷印预览，可以使印前人员方便地进行检查，识别需要修改的陷印区域。
- 专利类型发明专利
- 申请人方正国际软件(北京)有限公司;
- 发明人具永兰;王槐明;金超;张琴;
- 地址100080 北京市海淀区北四环西路52号中芯大厦19层
- 申请号CN200910090045.1
- 申请时间2009年07月28日
- 申请公布号CN101969518A
- 申请公布时间2011年02月09日
- 分类号H04N1/00(2006.01)I;H04N1/58(2006.01)I;G06F3/12(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
