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    玻片及其形成方法

      摘要:一种玻片,包括一基板、以及一设置于基板的金属图案。本发明可达到高产量并具有低成本的优势,以及可减少待测物与网格线之间的距离以使待测物与网格线同时落入显微镜的景深范围内。本发明亦揭示一种玻片形成方法。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人上海中晶科技有限公司;
    • 发明人林光远;
    • 地址200233 上海市漕河泾开发区桂平路680号35号楼
    • 申请号CN200910049072.4
    • 申请时间2009年04月09日
    • 申请公布号CN101859022A
    • 申请公布时间2010年10月13日
    • 分类号G02B21/34(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C25D5/02(2006.01)I;