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    用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置

      摘要:本发明公开了一种用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置,设有步进电机,石英舟的下方设有SiC转盘,在该SiC盘的底部中央设有固定轴,固定轴的下端设有带轮,该带轮通过传动带与步进电机传动连接;在固定轴的下部设有舟旋转定位装置,上部设有密封腔,密封腔设有进出气管,SiC转盘的下面设有带水冷却腔炉门,炉门底部固定设有轴罩,在轴罩的底端与SiC转盘的固定轴之间设有密封环;在炉门下面设有数个缓冲器,在炉门四周下面还设有密封挡板。本发明适用于用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟的旋转装置,结构完善,控制灵活,水平、垂直位置控制精确。从而使硅片受热均匀,提高了硅片膜厚均匀性。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
    • 发明人钟华;赵星梅;董金卫;王喆;赛义德·赛迪;
    • 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
    • 申请号CN200810240137.9
    • 申请时间2008年12月17日
    • 申请公布号CN101813410B
    • 申请公布时间2012年11月14日
    • 分类号H01L21/324(2006.01)I;