摘要：本发明涉及半导体生产装置领域。本发明的一种低氧控制系统，包括依次连接的氮气输送装置、循环风机和处理腔室，其中，所述处理腔室外部还连接有循环管路和氧气分析仪，所述氧气分析仪的另一入口端与氮气输送装置连接，所述循环风机上还安装有换气阀门。本发明低氧控制系统，能控制相对空间(即微环境)中的氧气浓度，从而有效控制晶片的自然氧化状况。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人林松;赵星梅;钟华;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN200910260767.7
- 申请时间2009年12月31日
- 申请公布号CN101789359B
- 申请公布时间2012年03月07日
- 分类号H01L21/00(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
