摘要：一种折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，采用先碱催化后酸催化的方法制备涂膜液，适用于浸涂法、或喷涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜层，高温热处理后得到多孔性二氧化硅膜层。本发明制备的膜层具有高硬度、高化学稳定性、自洁性好和宽带减反的特点。
- 专利类型发明专利
- 申请人中国科学院上海光学精密机械研究所;上海大恒光学精密机械有限公司;
- 发明人唐永兴;熊怀;李海元;陈知亚;
- 地址201800 上海市800-211邮政信箱
- 申请号CN200910048696.4
- 申请时间2009年04月01日
- 申请公布号CN101531468B
- 申请公布时间2011年05月25日
- 分类号C03C17/23(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;
教育装备采购网在线客服
京公网安备11010802043465号
