摘要：一种0°入射起偏薄膜的制备方法，该方法是采用(HL)mH膜系利用镀制膜层的沉积角度θ1、θ2不同而镀制出高折射率膜层和低折射率膜层交替变化的双折射薄膜，实现0°起偏，其中H和L分别表示λ/4光学厚度的高折射率层和低折射率层，m为周期数。本发明具有薄膜结构简单、膜厚小、制备过程简单和操作方便的特点。
- 专利类型发明专利
- 申请人中国科学院上海光学精密机械研究所;上海大恒光学精密机械有限公司;
- 发明人王晴云;齐红基;肖秀娣;贺洪波;易葵;范正修;
- 地址201800 上海市800-211邮政信箱
- 申请号CN200810204860.1
- 申请时间2008年12月30日
- 申请公布号CN101464536B
- 申请公布时间2010年08月11日
- 分类号G02B5/30(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;
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