摘要：本发明公开了一种磁共振设备中的局部线圈。本发明中局部线圈由第一线圈和第二线圈构成，第二线圈针对该局部线圈所处区域进行匀场处理，提高了该区域的主磁场均匀度，且接收磁共振信号的第一线圈所产生的磁场与进行匀场处理的第二线圈所产生的磁场不平行，从而保证二者不会发生耦合、以避免二者相互影响对方性能，因而能够提高该局部线圈所处区域的局部成像质量。而且，将该局部线圈设置于在某些匀场效果较差的区域，例如与主磁场非同心的区域，则其提高局部成像质量的效果尤为明显。
- 专利类型发明专利
- 申请人西门子(中国)有限公司;
- 发明人刘克成;陶红艳;高静;
- 地址100102 北京市朝阳区望京中环南路7号
- 申请号CN200710195529.3
- 申请时间2007年12月04日
- 申请公布号CN101452065B
- 申请公布时间2011年10月19日
- 分类号G01R33/20(2006.01)I;G01R33/36(2006.01)I;G01R33/38(2006.01)I;G01R33/385(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
