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    双光路全反射X荧光分析仪

      摘要:本发明涉及一种双光路全反射X荧光分析仪,包括至少两只不同的激发源(X光管)、上反射体、下反射体、载样片、样品压环,所述的两只不同的激发源共用同一电源并可自动切换。两只激发源与载样片和样品压环之间,各设有上反射体和下反射体,所述的上反射体和下反射体之间有很小间距,X射线以非常小的掠射角射入该间隙,并在上反射体和/或下反射体的反射面上产生全反射,最终到达被测样品处。本发明所述双光路全反射X荧光分析仪的优点在于:可以使用于测试不同的元素,使用中不需要多次更换激发源,多次切断电源、调整光路等,可以明显提高测试效率。并使得在分析灵敏度上由于使用不同激发源而得到互补提高,可操作性和方便性明显,能更好地满足使用者要求。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人北京普析通用仪器有限责任公司;
    • 发明人田宇纮;
    • 地址100081北京市海淀区中关村南大街甲8号威地科技大厦
    • 申请号CN200610111339.4
    • 申请时间2006年08月23日
    • 申请公布号CN101131370A
    • 申请公布时间2008年02月27日
    • 分类号G01N23/223(2006.01);