摘要：本发明所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴，薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间，干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间，安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。本发明所述一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪的优点在于：它有效的结合了薄、厚样技术检测仪的长处，既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量，又可以得到更高精度的测量结果，满足实验研究的需要。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京普析通用仪器有限责任公司;
- 发明人田宇纮;
- 地址100081 北京市海淀区中关村南大街甲8号威地科技大厦
- 申请号CN200610111338.X
- 申请时间2006年08月23日
- 申请公布号CN101131369B
- 申请公布时间2010年06月02日
- 分类号G01N23/20(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
