摘要：本发明属于精密合金领域，涉及因瓦合金箔的制备方法。本发明所述的因瓦合金，即镍含量为35～37％(wt％)的Fe-Ni合金，所述的因瓦合金箔的制造方法是采用电沉积法，电解液为低金属盐浓度的硫酸盐体系，同时添加缓冲剂、络合剂、光亮剂和辅助剂，并使用304不锈钢、Ir氧化物涂层钛板分别作为阴极和阳极材料；电沉积的工艺参数为：温度50～70℃，pH 3.0～4.5，电流密度1.0～10.0A/dm2，阴阳极间距10～30mm，电沉积时间5～50min。将阴阳极置于电解液中，通以一定时间的直流电，将因瓦合金沉积在阴极上，然后取出阴极板冲洗干净，经干燥将其表面形成的Fe-Ni合金层剥离下来，即成为因瓦合金箔。
- 专利类型发明专利
- 申请人安泰科技股份有限公司;
- 发明人卢燕平;李鹏;韩伟;刘天成;孙克;李德仁;卢志超;周少雄;
- 地址100081北京市海淀区学院南路76号
- 申请号CN200510127808.7
- 申请时间2005年12月06日
- 申请公布号CN100449038C
- 申请公布时间2009年01月07日
- 分类号C25D1/04(2006.01);C25D3/56(2006.01);
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京公网安备11010802043465号
