MEMS代工|光刻电镀刻蚀镀膜电子束直写

　　mems加工|微纳加工|硅片光刻加工|镀金镀膜刻蚀微纳mems电路线路图形

　　实验室平台拥有设备等共计200余台，其中主要设备（40余台）包括：

　　·图形化设备

　　电子束曝光、激光直写、台式接触式光刻机、桌面式光刻机等

　　·薄膜沉积设备

　　ICP-PECVD、LPCVD、磁控溅射、电子束蒸发镀膜、PE-ALD、DLC薄膜沉积等、电镀 （Au、Ag、Cu、Ni、Sn等）

　　·刻蚀设备

　　ICP—RIE、RIE、IBE、DRIE深硅刻蚀、XeF2表硅刻蚀机、HF气相刻蚀等干法刻蚀设备和满足体硅、介质膜、金属氧化物、金属等的湿法刻蚀设备以及相配套的二氧化碳超临界释放设备

　　·表征和测试设备

　　AFM、台阶仪、Raman光谱、SEM、FIB、共聚焦显微镜、白光干涉仪、红外热成像仪、FEMTO—TOOLS微纳力学测试仪、超高速相机、3D多普勒激光测振仪、DC／RF探针台（60GHZ）、网络分析仪（60GHz）、半导体分析仪、阻抗分析仪以及高精度电学原表等

　　·器件后道封装设备

　　晶圆减薄、CMP抛光、晶圆键合、贴片机、划片机、打线机、固晶机、激光焊接机等团队自主研发的加工设备，封测设备。

　　平台技术能力

　　·工艺整合及平台能力

　　—导电DLC膜层（超滑副，导电超硬膜层等）

　　—AIN／PZT薄膜工艺（压电驱动材料）

　　—大尺寸高定向碳材料生长和器件加工工艺

　　—键合：阳极键合、玻璃焊料键合、共晶键合（AIGe）、扩散键合工艺

　　—气氛或真空封装、Reseal

　　—研磨减薄和原子级抛光工艺

　　—硅基全湿法微纳加工工艺—柔性衬底微纳器件加工

　　·制造与封测能力

　　—硅通孔（TSV）玻璃通孔（TGV）

　　—压力／气体／红外／湿度传感器

　　—微流控芯片加工和相关测试

　　一超滑射频／惯性器件加工能力

　　—Die的全封装能力

　　我们提供快速MEMS器件 / 微纳米结构加工设计服务, 欢迎留言咨询。