沈阳科晶自动化设备有限公司

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  • 产品总数:19
  • 球形脉冲激光淀积系统(PLD)
    球形脉冲激光淀积系统(PLD)

    简介:​该系统为球形脉冲激光淀积系统(PLD)工艺研发设备。脉冲激光沉积(Pulsedlaserdeposition,PLD),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。在众多的薄...

    ¥0
    围观:52次 产地:辽宁 沈阳 产品详情
  • 钙钛矿镀膜机
    钙钛矿镀膜机

    简介:产品简介:钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试...

    ¥350000
    品牌:沈阳科晶 围观:255次 产地:辽宁 沈阳 浑南区 产品详情
  • GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪
    GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪

    简介:产品简介:GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定,并精确控制温度在200C-1500C(或者1200C-~1700C)的范围内进行变化,可蒸镀直径长达2的薄膜样品,在对样品进行蒸发镀膜的过程中,样品台可进行旋转旋转,以获得更均匀的薄膜。GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀...

    ¥40000
    品牌:科晶 围观:299次 产地:辽宁 产品详情
  • VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
    VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪

    简介:产品简介:VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片极限尺寸为2,放置样品的直径为50mm,加热温度达500℃。VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材,不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台,能够...

    ¥265000
    品牌:科晶 围观:337次 产地:辽宁 沈阳 浑南区 产品详情
  • GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪
    GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪

    简介:产品简介GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜(如金、铂、铟、银等)而设计,最大放置样品尺寸直径为40mm,膜厚可达300?,特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、可以调节电流大小,可设置溅射时间。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源:208V-2...

    ¥0
    品牌:科晶 围观:256次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪
    GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪

    简介:产品简介:GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转,使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元,一个钨舟,...

    ¥0
    围观:165次 产地:辽宁 产品详情
  • 加热台
    加热台

    简介:加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪的样品台的加热。

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:156次 产地:辽宁 产品详情
  • 密封装置
    密封装置

    简介:产品简介密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件,安装孔径为19.2mm。主要特点1、可用于高真空腔室,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数安装孔径:19.2mm

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:150次 产地:辽宁 产品详情
  • 不锈钢弯头
    不锈钢弯头

    简介:产品简介不锈钢弯头共2个接口,两接口为90°垂直且共面分布,主要用于连接真空腔室与相关配件。主要特点1、可用于高真空腔室,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、接口可根据用户要求改制。技术参数接口:2个KF40接口

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:166次 产地:辽宁 产品详情
  • 四通阀
    四通阀

    简介:产品简介四通阀包含3个接口、1个阀门,呈垂直且共面分布,其中2个KF40接口、1个KF25接口(可根据用户要求改制),主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。主要特点可用于高真空腔室。技术参数1、接口:2个KF40、1个KF252、阀门:1个

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:180次 产地:辽宁 产品详情
  • VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
    VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

    简介:产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电...

    ¥300000
    品牌:沈阳科晶 围观:433次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪
    GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪

    简介:产品简介:GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪特别适合对轻金属如、Al、Mg、和Li等金属的蒸镀,这种镀膜的方法主要是在真空条件下,加热蒸发钨丝舟中待蒸发的材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸汽流,入射到衬底或基底表面,从而凝结成固态薄膜的方法。GSL-1100X-SPC-15E-LD...

    ¥0
    品牌:科晶 围观:164次 产地:辽宁 产品详情
  • OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉
    OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉

    简介:产品简介:OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉是一款快速蒸发管式炉,专门用于PVD或CSS法制作薄膜;其炉管外径为11,炉管内载样盘可放置3的圆形或22的方形基片;OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体顶端和底部,升温速率高达20℃...

    ¥0
    品牌:科晶 围观:223次 产地:辽宁 产品详情
  • VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

    简介:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导...

    ¥230000
    品牌:沈阳科晶 围观:766次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪
    GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪

    简介:产品简介:GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪能够满足扫描电子显微镜样品表面喷金、蒸金或蒸碳过程使用以及非导体材料...

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:274次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

    简介:产品简介:GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理(二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。)设计而成的简单、可靠、...

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:292次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
    GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪

    简介:产品简介:GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理(直流二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。)设计而成的简单、...

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:367次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
    GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪

    简介:产品简介:GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300,特别适用于SEM样品表面的镀膜。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪...

    ¥0
    品牌:沈阳科晶 围观:219次 产地:辽宁 产品详情
  • GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪
    GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪

    简介:GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al、Au等)和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟,每个加热舟都可独立进行蒸镀,加热舟上方有一个可旋转挡板,当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住,以防蒸镀材料之间...

    ¥250000
    品牌:沈阳科晶 围观:299次 产地:辽宁 产品详情